HfO₂涂层银纳米柱基底

5个月信号不衰减

通过原子层沉积二氧化铪保护层，解决了银基底化学不稳定导致SERS信号随时间衰减的问题。

Giulia, Zappalà · Thamdrup, Lasse Højlund Eklund · Amirali, Abbaspourmani · Dumont, Elodie · 吴开宇 · Shkondin, Evgeniy · Mallada, Reyes · Pina, M. P. · Rindzevicius, Tomas · Boisen, Anja

Surfaces and Interfaces 2025

具体参数

涂层厚度

{'zh': '1.5', 'en': '1.5'} nm

稳定性测试周期

{'zh': '5', 'en': '5'} month

技术优势

5个月信号不衰减

1.5 nm HfO₂涂层使检测2,4-二硝基苯酚的检出限（LoD）和定量限（LoQ）在5个月内保持稳定，而未涂层的基底同样指标变化显著。

涂层越薄越好用

与更厚的HfO₂涂层相比，~1.5 nm的涂层表现出更优的信号稳定性和噪声降低，因为厚度增加会过度衰减等离激元增强。

保灵敏又抗退化

极薄的HfO₂层在不明显降低银纳米柱本征SERS增强的前提下，阻断了环境对银的化学侵蚀，实现了灵敏度和长期稳定性的平衡。

应用场景

• 爆炸物痕量检测：每月检测同浓度2,4-二硝基苯酚，信号依然可靠。
• 环境污染物监测：长达数月的监测中基线不漂移，定量不出错。
• 生化传感器长效芯片：芯片存放5个月性能不变，适合制成预制即用型传感器。
• 等离激元材料保护：用最薄的介电层同时实现保护与保持等离激元活性。