富氧空位钴铁氧化物

氰尿酸修饰强化降解

通过氰尿酸刻蚀引入丰富氧空位，增强光催化与过一硫酸盐活化的协同作用，实现四环素的高效降解。

Geng, Li · 吴光瑜 · Sun, Wenting · Shiyu, Bian · 潘玉伟 · 邢伟男 · 韩建刚 · Ming, Zhang · 黄玉东

Advanced Composites and Hybrid Materials 2025

参数信息

四环素去除率

99.4 %

技术优势

去除率更高

氰尿酸刻蚀引入氧空位后，L-Co3O4@Fe2O3/PMS/UV-LED体系30 min内去除99.4%四环素，超过未修饰体系。

电子转移更快

PMS作为Lewis碱加速电荷分离动力学，产生SO4•−和•OH自由基，并利用高效分离的空穴直接氧化四环素。

降解路径更清晰

结合DFT计算预测TC分子的极化性质和电场效应，并鉴定出15种中间体，准确推断降解路径。

应用场景

• 抗生素废水处理：高效降解四环素，处理含抗生素废水。
• 高级氧化水处理：整合光催化与PMS活化，强化自由基氧化。
• 过硫酸盐活化材料：氧空位和PMS协同促进电荷分离与活化。