等离子体清洗装置

高效去除有机污染

一种非平衡等离子体清洗装置，通过优化参数恢复衍射光栅表面微观形貌，提高表面洁净度。

白清顺 · Xujie, Liu · Hao, Sun · Li, Yuhai · 陈家轩 · 张鹏 · Xiaodong, Yuan

IEEE Transactions on Plasma Science 2023

技术优势

表面恢复干净

等离子体清洗去除了有机污染物，使水接触角降低、表面自由能升高，恢复了光栅原有的微观形貌。

不再损伤表面

清洗后表面微观形貌得以恢复，表明该方法不会对光栅微结构造成破坏。

参数化可控

通过响应面法优化大气和低压等离子体参数，进一步提高了表面洁净度。

应用场景

• 光学元件表面处理：用于去除光学元件表面有机污染，恢复其性能。
• 衍射光栅制造：在光栅制造过程中清洗表面污染，提高成品率。
• 等离子体清洗：提供一种安全的等离子体清洗方法，替代化学清洗。
• 精密光学制造：用于精密光学制造中的表面处理，确保元件性能。