nHA改性硅烷薄膜

腐蚀电流降至1/3000

该薄膜通过掺杂纳米羟基磷灰石显著延迟镁合金在生理环境中的膜下腐蚀和起泡失效。

Zhi-Gang, Song · 牟玥 · Xiao, Guiyong · Ming, Xie · Gong, Guanghao · Lü, Yupeng

Nano Materials Science 2024

具体参数

腐蚀电流密度

{'zh': '2.779×10⁻⁸', 'en': '2.779×10⁻⁸'} A/cm²

膜厚

{'zh': '3.25', 'en': '3.25'} μm

技术优势

腐蚀电流降三个数量级

nHA改性的硅烷薄膜使腐蚀电流密度从9.23×10⁻⁵降至2.779×10⁻⁸ A/cm²，显著抑制了电荷转移过程。

延迟膜下腐蚀与起泡

浸泡72小时内，nHA的协同作用有效延缓了膜下腐蚀和起泡，从而提高了薄膜的防护持久性。

应用场景

• 骨科植入物：为镁合金骨科植入物提供高耐蚀防护，延迟早期失效。
• 可降解支架：减缓可降解支架的过早腐蚀，保证服役期内力学完整性。
• 镁合金防护涂层：作为镁合金防护涂层，通过抑制膜下腐蚀和起泡延长寿命。