多尺度融合热点检测算法

精度与速度双优

通过多尺度特征融合与注意力机制提升光刻缺陷识别的准确性和效率。

徐辉 · Ye, Yuan · Ma, Ruijun · Pan, Qi · Fuxin, Tang · Xinzhong, Xiao · Wenxin, Huang · 梁华国

Journal of Micro/ Nanolithography, MEMS, and MOEMS 2024

技术优势

减少误报

多头注意力模块让网络聚焦于版图关键区域，避免对非热点区域产生错误判断，从而降低误报率。

检测更快

在网络中引入稠密块连接不同层，减少了重复计算，从而在整体检测仿真时间上优于现有算法。

应用场景

• 光刻工艺优化：提高光刻热点检测的精度和速度，加速工艺迭代。
• MEMS制造质量控制：用于MEMS版图的热点检测，减少制造缺陷。