氧化铝抛光液

纳米级超光滑表面

通过分散剂优化实现磨粒均匀悬浮，显著提升抛光均匀性与去除效率，获得超光滑表面。

Wu, Ziwei · 沈剑云 · Xian, Wu · 彭云峰 · Shaolong, Lin · Linbin, Huang · 黄雪鹏 · Laifa, Zhu

International Journal of Advanced Manufacturing Technology 2023

参数信息

表面粗糙度

3.16 nm

磨粒平均粒径

2.5 μm

技术优势

磨粒分散更均匀

通过优化分散剂种类与含量，显著改善抛光液中磨粒的分散状态，从而提升抛光均匀性。

材料去除模式可控

建立自由磨粒压痕深度模型，根据粒径大小可判断材料去除方式为塑性变形或脆性断裂，从而指导工艺选择。

应用场景

• 光学元件抛光：在气囊抛光中直接获得纳米级粗糙度，可替代多步抛光工艺加工光学元件。
• 微晶玻璃加工：针对微晶玻璃的硬脆特性优化工艺，获得超光滑表面以减少表面缺陷。
• 精密表面处理：仅用单一粒径磨粒即可将粗糙度降至3.16 nm，简化精密表面处理流程。