高附着WC/a-C:H涂层

高真空低磨损

经Cr离子注入改性的氧化锆上沉积的WC增强含氢非晶碳涂层，与原始基体上涂层相比附着力显著增强，并在高真空宽载荷范围内保持低磨损。

Li, Zeqing · Li, Liang · Zhang, Honghong · Shao, Shubao · 翟崇朴 · Shang, Lunlin · 张广安 · Minglong, Xu

Materials 2025

参数信息

附着力

88 N

磨损率降低幅度

1 order of magnitude

技术优势

附着力翻倍

Cr离子注入层增强了涂层与基体的结合，30 kV注入电压下附着力达88 N，比未处理基体上涂层的41.5 N提高112%。

高真空低磨损

即使在高真空15 N载荷下，涂层仅发生轻微磨粒磨损和粘着磨损，磨损率比氧化锆自配副降低1~2个数量级。

应用场景

• 真空运动部件：替代自配副氧化锆，降低高真空运动部件的磨损和摩擦。
• 精密仪器摩擦副：提供稳定低摩擦涂层，提升精密仪器摩擦副寿命。
• 植入体表面改性：通过Cr离子注入增强非晶碳涂层与氧化锆基体的结合。
• 航天机构润滑：在高真空宽载荷下保持低磨损，适用于航天机构润滑。