氦离子辅助湿法蚀刻

蚀刻表面粗糙度≈0.9nm，免涂胶，可加工不规则表面

利用聚焦氦离子束破坏晶格，实现碳化硅的免涂胶高分辨率湿法蚀刻，无需旋涂显影即可在不规则表面和悬空结构上加工纳米结构。

温晓镭 · Zhang, Lansheng · Wang, Xiuxia · 陈林 · 孙健 · Hu, Huan

Small Methods 2024

具体参数

Etched surface roughness

{'zh': '', 'en': '0.9'} nm

技术优势

聚焦氦离子束斑直径亚纳米级

无需光刻胶旋涂和显影工艺

可一步制备悬空纳米梁结构