Ni嵌入多孔MXene薄膜
低反射高效屏蔽
通过界面调控引入磁损耗,同时增强阻抗匹配,实现低反射与高屏蔽效能的平衡
刘和光 · 雷超 · Xiaolian, Li · 田娜 · 游才印 · Yang, Yang
Small 2025
具体参数
- EMI屏蔽效能
- {'zh': '70.7', 'en': '70.7'} dB
- 平均反射效能
- {'zh': '17.4', 'en': '17.4'} dB
- 比屏蔽效能
- {'zh': '35126', 'en': '35126'} dB·cm²·g⁻¹
技术优势
反射极低
通过界面调控策略增强阻抗匹配并引入磁损耗,平均反射效能仅17.4 dB,远低于传统MXene材料。
超高屏蔽效果
在超薄厚度(≈55 µm)下达到70.7 dB屏蔽效能,可屏蔽99.99999%以上入射电磁波。
轻质高效
比屏蔽效能高达35126 dB·cm²·g⁻¹,意味着在极低重量下提供极高屏蔽,适合对重量敏感的场景。
应用场景
- 柔性电子屏蔽层:作为柔性屏蔽层集成到可穿戴设备或柔性电路中,在低厚度下提供高效屏蔽。
- 电化学器件屏蔽:用于电化学器件外壳内衬,防止电磁干扰影响信号精度,同时避免高反射二次干扰。
- 无人机电磁防护:作为轻质屏蔽膜贴附于无人机机体,降低电磁干扰对导航和通信系统的影响。
- 机器人电路屏蔽:覆盖机器人内部电路板,抑制电机和控制器产生的电磁噪声,保障传感器信号稳定。