DMPU溶剂添加剂

非挥发强配位调控结晶

替代传统NMP,通过协同调控成核与结晶动力学,实现空气中刮涂制备高效率FACs钙钛矿电池

Zhihao, Hu · 蔡宏琨 · 罗晓光 · Baoyu, Han · 刘继锋 · Yingchen, Li · 刘超 · 倪牮 · Li, Juan · 张建军

Small Methods 2025

具体参数

功率转换效率
{'zh': '21.74', 'en': '21.74'} %
1000小时光照后效率保持率
{'zh': '84', 'en': '84'} %

技术优势

空气中可刮涂

DMPU的低挥发性允许湿膜在环境条件下保持稳定中间相,无需严格控湿。

缺陷密度更低

DMPU与PbI₂的强配位和有限溶解度促进有序成核和受控生长,得到纯相低缺陷薄膜。

长期光照稳定

优化后的刮涂器件在连续1-sun光照1000小时后仍保持84%初始效率,优于常见报道。

应用场景