NiO插层全氧化物SOT器件

阻尼矩效率提升51%

通过界面Rashba效应增强自旋流,实现室温低功耗磁化翻转。

Liu, Weikang · Xinyi, Wu · Bin, Cui · Liu, Liang · Xiangxiang, Zhao · Xu, Zhang · Zhang, Zhiyu · Hehe, Ding · 成彬 · 周广军 · 胡季帆

Communications Physics 2025

参数信息

阻尼类转矩效率提升
51 %

技术优势

无需贵金属

全氧化物异质结构由LaAlO3衬底、SrRuO3铁磁层和SrIrO3非磁层构成,NiO隧道层本身也是氧化物,避免使用Pt、Ta等贵金属。

效率提升51%

与对照样品相比,2 nm NiO插层使阻尼类自旋轨道矩效率相对提高51%,归因于界面Rashba效应增强自旋流。

室温即可翻转

器件在室温下实现自旋轨道矩诱导的磁化翻转,无需低温或加热,简化器件工作条件。

应用场景