甘氨酸增效GaN抛光液

去除率翻倍无划痕

磨料摩擦激活的甘氨酸反应体系，将GaN抛光速率提升至无甘氨酸体系的2.3倍，同时获得无划痕表面。

柯聪明 · Shoulin, Liu · Yiao, Pang · Yongping, Wei · 吴雅苹 · Luo, Qiufa · 吴跃勤 · 陆静

Ceramics International 2024

具体参数

含甘氨酸抛光液材料去除率提高

{'zh': '2.3', 'en': ''} 倍

最高材料去除率

{'zh': '304.2', 'en': ''} nm/h

无甘氨酸时最高材料去除率

{'zh': '129.4', 'en': '3'} nm/h