等离子体修饰La₂O₃催化剂

合成速率提升16.5%

射频等离子体处理增加氧空位并促进氮气化学吸附，在温和条件下提高等离子体辅助氨合成效率。

Yunjie, Li · Chen S. · Li, Kelin · Qihang, Li · Mengbo, Li · Linlin, Liu · 王锋

ACS Sustainable Chemistry & Engineering 2024

具体参数

氨合成速率
{'zh': '35.37', 'en': '35.37'} μmol/g/min
氨合成速率提升
{'zh': '16.5', 'en': '16.5'} %
未处理La₂O₃的氨合成速率
{'zh': '30.36', 'en': '30.36'} μmol/g/min
Al₂O₃的氨合成速率
{'zh': '29.14', 'en': '29.14'} μmol/g/min
MoO₂的氨合成速率
{'zh': '24.97', 'en': '24.97'} μmol/g/min

技术优势

合成速率更高

射频等离子体处理增加了La₂O₃表面的氧空位，促进了N₂化学吸附，从而将氨合成速率从30.36 μmol/g/min提升至35.37 μmol/g/min，提高16.5%。

吸附能力增强

EPR和N₂-TPD表征证实，射频等离子体处理显著提高了La₂O₃表面的氧空位含量，从而增强了N₂的化学吸附，为后续氨合成提供更多活性位点。

超过常见催化剂

处理后的La₂O₃的氨合成速率高于典型催化剂Al₂O₃（29.14 μmol/g/min）和MoO₂（24.97 μmol/g/min），证明其具有竞争优势。

应用场景