杂质修复钙钛矿界面层

大面积组件认证22.46%

该界面工程通过功能性阳离子构建高迁移率二维钙钛矿,覆盖薄膜表面并垂直贯穿晶界,将有害杂质转化为稳定二维钙钛矿,实现均匀缺陷钝化,同时提供高效载流子传输通道,解决从实验室到组件放大效率骤降难题。

Haifei, Wang · Su, Shuojian · 陈悦天 · Ren, Meng · Wang, Shaowei · Wang, Yao · 朱晨 · 缪炎峰 · Ouyang, Chuying · 赵一新

Nature 2024

具体参数

认证效率
{'zh': '22.46', 'en': '22.46'} %
填充因子
{'zh': '81.21', 'en': '81.21'} %
冠军效率
{'zh': '25.86', 'en': '25.86'} %
填充因子
{'zh': '86.16', 'en': '86.16'} %

技术优势

杂质被彻底转化

PbI2和δ-FAPbI3杂质被转化为稳定的二维钙钛矿,实现均匀缺陷钝化,减少非辐射复合。

电荷传输更快

高迁移率二维钙钛矿垂直贯穿晶界,提供互连通道,改善载流子传输与提取。

放大也能保持性能

子模块(715.1 cm²)实现22.46%的认证效率,证明该策略在放大时依然有效。

应用场景