岛状钙钛矿光电突触晶体管

弱光低电压驵动

利用低温ALD沉积的ZnO填充岛状钙钛矿间隙,同时减少光吸收损耗并实现高效电荷传输,使器件在极低光照下工作。

Jiahui, Liu · Ye, Yuliang · Yang, Zunxian

Materials 2025

具体参数

触发光强
{'zh': '0.035', 'en': '0.035'} mW/cm²
漏源电压
{'zh': '1.0', 'en': '1.0'} V
栅源电压
{'zh': '0', 'en': '0'} V
图形化后关态电流
{'zh': '1e-11', 'en': '1e-11'} A
静态电流
{'zh': '0.02', 'en': '0.02'} nA

技术优势

极弱光即可触发

0.035 mW/cm² 的绿光脉冲就能产生突触响应,接近月光水平,无需额外放大电路。

图形化后关态电流直降

对 ZnO 沟道图形化后,关态电流从 ~0.5 nA 骤降至 10⁻¹¹ A,静态电流仅 0.02 nA,接近于零待机。

低压操作,零栅压

漏源电压仅 1.0 V,栅源电压 0 V,即可完成突触功能模拟,与传统晶体管相比功耗大幅降低。

应用场景