钛粉改性硅酸盐涂层

500°C极低发泡

利用钛粉同时降低可挥发水分和体积膨胀补偿,实现化学键合硅酸盐涂层在高温下的致密化,而非简单填充。

Du, Yao · Chen, Zheng · Lu, Yiliang · 杨兰兰 · 王成 · 朱圣龙 · Wang, Fuhui

Ceramics International 2024

具体参数

孔隙率
{'zh': '1.8', 'en': '1.8'} %

技术优势

孔隙率低至1.8%

30 wt% Ti改性涂层在500°C热处理后孔隙率仅1.8%,远优于SiO₂和TiO₂填料。

从源头减少发泡驱动力

Ti颗粒溶解出的Ti⁴⁺离子可减少涂层中挂接的-Si-OH键数量,从而降低可挥发水含量κ₀,而SiO₂填料不能改变κ₀,TiO₂甚至增加κ₀。

体积膨胀自动填孔

Ti颗粒在热处理中氧化发生体积膨胀,补偿了涂层干燥收缩,与降低κ₀协同实现致密化。

应用场景