Ga基半导体薄膜

任意衬底可沉积

一种可在任意衬底上沉积并可图案化的Ga基半导体薄膜，用于柔性电子和集成光电子器件。

Zixu, Sa · 宋克鹏 · Meng, You · Wenfeng, Wu · Zhang, Jie · Zeqi, Zang · Wang, Guangcan · Wang, Mingxu · Jia, Zhitai · Tan, Yang · 李伟峰 · Yip, Senpo · 陈峰 · Ho, Johnny C. · 杨再兴

Light: Science and Applications 2026

参数信息

空穴迁移率

0.25 cm² V⁻¹ s⁻¹

入射角

5 °

技术优势

不挑衬底

可在任意衬底上沉积，包括柔性基板，为柔性器件提供直接集成路径。

量产友好

采用低成本晶圆级气相沉积工艺，与标准半导体流程兼容，适合批量制备和图案化。

器件功能全

薄膜可图案化，用于p沟道晶体管阵列、突触器件和柔性成像传感器，展示多种功能。

应用场景

• 柔性电子：在任意柔性衬底上直接沉积，无需转移工艺，简化柔性器件制造。
• 光电子器件：薄膜可图案化，适用于集成光电子器件的晶圆级制备。
• 神经形态计算：图案化薄膜可构建功能突触器件，用于神经形态计算。
• 柔性成像传感器：薄膜在5°入射角下保持功能，适合全向柔性成像传感器。