低结晶NiCoSₓ修饰Ni₃S₂纳米棒

高电流密度下超低全解水电压

低结晶壳层与晶态核构建界面内建电场，协同优化中间体吸脱附，实现高稳定大电流全解水。

Neng, Chen · 李宏强 · 贾德东 · Haoran, Qian · Pang Huan · 邱介山 · 李永峰 · 何孝军 · ORecord 科技单元

Nano-Micro Letters 2026

参数信息

HER过电位

346 mV

OER过电位

520 mV

全解水电压

2.10 V

耐久性

400 h

技术优势

大电流下电压低

在1000 mA cm⁻²下全解水电压仅2.10 V，得益于界面电荷转移加速和中间体吸脱附优化。

稳定运行400小时

低结晶壳层作为保护层，动态重构为NiCoOOH并抑制硫浸出，保障了长时间催化稳定性。

应用场景

• 碱性电解水：替代贵金属催化剂，实现大电流下低能耗制氢。
• 大电流析氧：在1000 mA cm⁻²下仅需520 mV过电位，满足工业级析氧需求。
• 大电流析氢：在1000 mA cm⁻²下仅需346 mV过电位，适用于高效析氢。
• PEM电解槽：低结晶壳层抑制硫浸出，提供酸性环境下的潜在稳定性。
• 工业电解槽：大电流下低电压和长耐久性，适合工业电解槽应用。