300 μm超薄高度
通过在300 μm高度的超薄封装中引入异型微带线补偿阻抗,这款开关在保持低损耗的同时解决了集成高度瓶颈。
Liu, Huiliang · 吴倩楠 · 李孟委 · 刘泽文
Microsystems and Nanoengineering 2026
通过衬底减薄工艺实现了300 μm总高度,解决了紧凑集成的高度瓶颈。
采用异型微带线补偿超薄衬底和空气腔引起的阻抗变化,在DC到18 GHz频段内保持低插入损耗。
实测隔离度超过18 dB、回波损耗优于14 dB,确保信号完整性和通道间隔离。