稀土荧光缺陷标记

纳米缺陷显形

一种可完全去除的纳米颗粒标记物，能高灵敏定位二维晶体中的点缺陷，突破传统光学检测的分辨率瓶颈。

Wei, Wenya · Ding, Mingchao · 吴攀 · Qiao, Ruixi · Guo, Quanlin · 张志斌 · Zhao, Mengze · Peng, Yin · 刘灿 · 鸿浩 · 徐小志 · 刘开辉 · 白雪冬 · Wang, Li Li

Advanced Materials 2026

技术优势

缺陷直接可视

Er-NPs 优先在缺陷位点聚集，显著增强局部光致发光信号，使缺陷位置和分布可直接观察。

不损伤样品

Er-NPs 可通过超高真空退火完全去除，确保检测过程对二维晶体无损伤。

兼顾分辨率与通量

相比原子级分辨率技术，这种方法在大面积样品上提供更高对比度和更高效的缺陷定位。

应用场景

• 二维材料质检：快速定位大面积二维晶体中的低密度点缺陷，提升质检效率。
• 缺陷工程：准确识别缺陷位置和分布，指导缺陷调控策略。
• 光学检测：用荧光增强实现高对比度光学检测，突破传统光学灵敏度限制。
• 荧光标记：用可去除的稀土纳米颗粒标记缺陷，检测后不留残余。