有序石墨烷纳米带

Li, Fang; Tang, Xingyu; Liu, Jie; Puyi, Lang; Che, Guangwei; Chen, Li; Gao, Dexiang; Dong, Xiao; Hattori, Takanori; Abe, Jun; Mao, Ho Kwang; Zheng, Haiyan; Li, Kuo

有序石墨烷纳米带

带隙 2.25 eV

通过高压 Diels-Alder 聚合合成，具有长程有序结构，且未反应的 -C=N- 基团可用于进一步功能化。

Li, Fang · Tang, Xingyu · Liu, Jie · Puyi, Lang · Che, Guangwei · Chen, Li · Gao, Dexiang · Dong X. · Hattori, Takanori · Abe, Jun · Mao, Ho Kwang · 郑海燕 · 李阔

Journal of the American Chemical Society 2025

具体参数

带隙: 2.25 eV

技术优势

光电响应 I_ON/I_OFF = 18.8