石墨烯界面 HfOx 忆阻器

Zhao, Jian; Wataru, Sugimoto; Kai, Ito; Kim, Seung-hwan; Kalia, Rajiv K.; Nakano, Aiichiro; Shimamura, Kohei; Shimojo, Fuyuki; Vashishta, Priya D.; Roy, Ajit K.; Hu, Miao; Williams, R. Stanley; Xia, Qiangfei; Joshua Yang, J.; ORecord 科技单元

石墨烯界面 HfOx 忆阻器

700°C 高温可靠运行

通过石墨烯界面层抑制钨扩散，解决贵金属电极在高温下的热失效难题。

Zhao, Jian · Wataru, Sugimoto · Kai, Ito · Kim, Seung-hwan · Kalia, Rajiv K. · Nakano, Aiichiro · Shimamura, Kohei · Shimojo, Fuyuki · Vashishta, Priya D. · Roy, Ajit K. · Hu, Miao · Williams, R. Stanley · Xia, Qiangfei · Joshua Yang, J. · ORecord 科技单元

Science 2026

具体参数

Data retention: {'zh': '', 'en': '>50'} hours

技术优势

工作温度高达 700°C

开关比 >10³

耐久性 >10⁹ 次循环