电化学抛光AlMgScZr合金件

内通道表面粗糙度大降

针对激光粉床熔融AlMgScZr合金内通道,采用双阶段电化学抛光,弯曲通道表面光泽与平整度显著优于未处理件。

Li, Yanliang · Gongxiang, Huang · Hu, Weiye · Yang, Tao · 曾永彬

Materials Today Communications 2025

参数信息

表面粗糙度Sa
1.77–6.72 μm
粗糙度降低率
62.3–95.3 %

技术优势

粗糙度大降

双阶段ECP将弯曲通道Sa从最小值7.85 μm降至1.77 μm,降幅显著。

替代机械抛光

ECP能够到达内通道等复杂形状区域,解决机械工具难以触及的问题。

表面光泽提升

CCEG电解液阶段形成过饱和盐膜,消除杂散腐蚀引起的微凸起,使表面光泽进一步提高。

应用场景