钛层去除率 37 nm/min
以柠檬酸钾为络合剂，在弱碱性条件下协同化学溶解与机械磨蚀，实现钴互连钛阻挡层的高效去除。
Qinhua, Miao · Zhang, Fan · Lu, Huang · Cheng, Jie · Yaran, Lv · Jinchi, Chen · 柴智敏 · 潘国峰 · Wang, Chengxin · 葛世荣
Applied Surface Science 2025
柠檬酸根与 TiO₂ 化学络合生成可溶性络合物，加速钛的化学溶解；同时钾离子降低 TiO₂ 与 SiO₂ 磨粒间的静电排斥，增强机械磨蚀，两者协同使 Ti 去除速率达到 37.35 nm/min。
该抛光液对 Co 的去除速率为 18.05 nm/min，Co/Ti 选择比为 1:2，能够在抛光阻挡层时控制钴的损失，满足 Co buff CMP 对选择性的要求。
抛光后 Ti 表面粗糙度 Ra 仅为 0.14 nm，有利于后续工艺和器件可靠性。
通过 XPS、ICP-MS、DFT 计算和分子动力学模拟阐明了柠檬酸钾的络合机制，为工艺优化提供了理论依据。