粗糙度降至3 nm
一种专用于超声辅助化学机械抛光单晶碳化硅的抛光液，通过三乙胺、邻苯二甲酸氢钾、硅铝复合磨粒和过氧化氢的协同配比，将表面粗糙度从95 nm降至3 nm。
刘瑶
Scientific Reports 2024