纳克级稳定去除
通过恒流控制实现蚀刻活性物种的稳定生成，在熔融石英上达到纳米级深度和纳克级质量的精准去除，且无应力、无热影响。
Meng, Lei · Liu, Yusheng · 闫英 · Dongming, Guo · 周平
Precision Engineering 2024
恒流模式持续稳定生成蚀刻活性物种 HF2⁻，避免恒压下的浓度波动，从而保证蚀刻深度和质量的稳定性。
通过电化学诱导化学蚀刻实现材料去除，过程中不引入机械应力或热影响，适用于对损伤敏感的高精度石英部件。
在纳安级电流范围内，加工电流与质量去除量呈线性关系，可通过调节电流精确控制去除量。