联吡啶修饰铜催化剂

不对称位点高效C₂₊

联吡啶修饰的铜位点与相邻裸铜位点构成的不对称催化位点,通过促进OC-COH偶联,克服C-C偶联的高能垒,显著提高CO₂向C₂₊产物的转化选择性。

Xu, Chen · Yanlei, Liang · Ying, Zhang · Jun, Wang · 王俊中 · 杨正坤 · Chen, Xifan · Xiao, Juanding · Jia, Yang

Chemical Engineering Journal 2026

具体参数

C₂₊法拉第效率
70 %

技术优势

C₂₊选择性大幅提升

在气体扩散流动池中,联吡啶修饰的铜催化剂的最大C₂₊法拉第效率达70%,明显高于未修饰铜催化剂的51%。

低电位下工作

在−0.64 V vs. RHE的较低电位下即可获得最高C₂₊法拉第效率,有利于降低能耗。

独特的反应路径

机理研究表明,不对称位点分别促进*COH和*CO中间体形成并耦合成OC-COH,从而绕过高能垒C-C偶联路径。

应用场景