超高纯氧化铪涂层

激光损伤阈值4倍

用一锅法可控合成出高纯度HfO2，沉积的薄膜在激光损伤阈值上远超常规电子束蒸发制备的材料。

周牧 · Linli, Zhou · 何维 · 谢良波

Guangxue Xuebao/Acta Optica Sinica 2025

参数信息

纯度

99.999 %

激光损伤阈值高

60 J/cm²

常规材料损伤阈值仅

15 J/cm²

应用场景

• 高功率激光光学：提供更高损伤阈值的镀膜材料，延长高功率激光器中光学元件寿命。
• 激光薄膜：用超高纯HfO2粉体镀膜，直接提升薄膜抗激光损伤能力。
• 光学镀膜：超高纯原料减少缺陷，使涂层能承受更高激光能量密度。
• 高损伤阈值材料：将常规HfO2的损伤阈值提高4倍，满足更高功率应用需求。