超分子配合物修饰g-C₃N₄光催化剂

析氢速率提升278倍

通过手性超分子自组装引入自旋极化和钯活性位点,同时加快电荷分离和表面还原,突破传统g-C₃N₄的效率瓶颈。

周小松 · 罗金 · 宁小媚 · 范旭良 · Zhou, Xunfu · Xiaoqin, Zhou

Journal of Colloid and Interface Science 2024

具体参数

光催化析氢速率
{'zh': '1085', 'en': '1085'} μmol g⁻¹ h⁻¹

技术优势

析氢速率飙升278倍

R-TAP-Pd(II)超分子修饰不仅抑制复合,还提供催化位点,使g-C₃N₄的可见光析氢速率从约3.9提升至1085 μmol g⁻¹ h⁻¹。

自旋极化抑制复合

手性R-TAP-Pd(II)分子产生自旋极化,有效分离光生电子和空穴,延长载流子寿命,这在光谱和光电化学测试中得到证实。

Pd原子本身就是活性位点

原位XPS和电化学测试表明,R-TAP-Pd(II)中的Pd(II)离子直接作为产氢的催化中心,加速表面还原过程。

应用场景