离子注入改性纯镁植入层

耐蚀性大幅提升

Ti和Zr离子注入形成的致密氧化物复合层有效隔离腐蚀介质，延缓纯镁降解。

75640467 · Xuhui, Liu · Zijin, Xiao · 戴翌龙 · 豆雨辰 · 佘加 · 卢立伟 · 杨熠 · 王利飞 · 赵镍 · Wei, Wenwen · 齐福刚 · Ouyang, X. P.

Rare Metals 2025

具体参数

腐蚀电流密度

{'zh': '3.39e-7', 'en': '3.39e-7'} A·cm⁻²

腐蚀电流密度

{'zh': '5.02e-7', 'en': '5.02e-7'} A·cm⁻²

技术优势

耐蚀性大幅提升

Ti和Zr离子注入生成致密的MgO和注入元素氧化物复合层，有效阻隔腐蚀介质。

电偶腐蚀风险低

Ti和Zr与Mg的功函数接近，不会像Ag那样因电极电位差引发严重电偶腐蚀。

应用场景

• 可降解镁合金植入物：延缓降解，在骨折愈合期内保持力学完整性。
• 医用镁合金表面处理：替代有毒涂层，形成无界面脱落的冶金结合层。