W-Ta合金抗氦溅射

Xiaolong, Li; Xiaoqiao, Liu; Zhang, Xin; Shen, Junfeng; Liu, Sanqiu; Xu, Yuhong; Lei, Guangjiu; Li, Heng; Cui, Zilin; Hu, Jun; Zhu, Yiqin; Huaqing, Zheng; Geng, Shaofei; Chen, Xiaochang; Liu, Haifeng; Xianqu, Wang; Liu, Hai; Cheng, Jun; Tang C.J.

W-Ta合金抗氦溅射

溅射产额随Ta线性增

该合金在氦离子轰击下的溅射和空位行为随钽浓度呈线性变化，为核聚变材料选择提供了理论依据。

Xiaolong, Li · Xiaoqiao, Liu · 张辛 · 申俊峰 · 刘三秋 · 许宇鸿 · 雷光玖 · Li, Heng · Cui, Zilin · Hu, Jun · Zhu, Yiqin · Huaqing, Zheng · 耿少飞 · 陈小昌 · 刘海峰 · Xianqu, Wang · 刘海 · 程军 · Tang C.J.

Fusion Engineering and Design 2024

技术优势

溅射产额与W(Ta)原子浓度呈线性关系

空位数量随Ta浓度增加

三种表面中(110)面SBE最高