单晶硅纳米孔片

3 nm 纳米片阵列

该单晶硅纳米孔/纳米片可通过快停离子电流监控的三步湿法刻蚀精确调控尺寸，为单分子分析和DNA测序提供可控且可重现的纳米结构。

Lei, Xin · 刘泽文

Microsystems and Nanoengineering 2023

参数信息

纳米片阵列特征尺寸

3 nm

单个纳米孔尺寸与理论值最小偏差

1.4 nm

技术优势

尺寸精确可控

通过离子电流与纳米孔尺寸的定量关系，制备过程中实时监控并停止刻蚀，单个纳米孔尺寸与理论值最小偏差仅1.4 nm。

最小特征尺寸

制备的纳米片阵列特征尺寸仅3 nm，是目前报道的TSWE方法的最小尺寸，可满足高分辨率单分子检测需求。

DNA测序潜力

DNA易位测量结果显示制备的单晶硅纳米孔具有应用于DNA测序的优异潜力。

应用场景

• 微流控芯片：可直接集成到微流控系统中，用于纳米颗粒分离和单分子分析。
• 纳米孔单分子检测：精确尺寸的纳米孔可实现单分子检测，用于分析单个生物分子。
• 纳米测量：3 nm特征尺寸的纳米结构可作为纳米尺度标准样品或测量工具。
• DNA测序：DNA易位测量证实纳米孔具备DNA测序所需的分辨能力。