过电位仅256 mV
铁离子掺杂优化钴位点的d带中心,加速析氧反应动力学
Xiubing, Fu · Yu, Juan · Han, Li · 张永兴 · Pan, Shencheng · Yongsheng, Fu · Li, Bing
Journal of Power Sources 2025
Fe掺杂优化了Co位点的d带中心,使OER过电位在10 mA cm⁻²下仅256.09 mV,优于未掺杂样品。
该催化剂在30小时i-t测试中保持活性稳定,无明显衰减,适合长时间运行。
Fe掺杂促进∗OOH的还原,加快电子转移速率,使反应中间体转化更快。