V掺杂阳离子空位镍铁LDH

OER/UOR双功能

通过V掺杂和阳离子空位工程协同调控活性位点，实现远低于商业RuO₂的过电位。

Li, Huixi · 余强 · Xingdong, Zhu · Haoran, Wu · Zhengming, Dai · Linxia, Li · 朱薇 · Li, Shuting · 陈阵

Chemical Engineering Journal 2024

具体参数

过电位

196 mV

电位

1.34 V

技术优势

性能超越商业RuO₂