微结构Gd靶

EUV 发射增强 1.48 倍

通过沟槽约束等离子体，实现更窄的 6.7 nm 光谱和更强的 EUV 输出，为下一代光刻光源提供新方案。

Qi-Jin, Zhang · Dou, Yinping · Yibin, Zhang · Wen, Zhilin · Chaohui, Wang · Ye, Fengwei · 宋晓伟 · Xie, Zhuo · 林景全

Vacuum 2024

技术优势

光谱宽度约为平面靶的三分之二

EUV 发射强度增强比为 1.48

等离子体电子密度高于平面靶