过饱和银铜纳米合金薄膜

抗电迁移耐高温

通过过饱和固溶铜和原位氧化,同时大幅提升烧结接头的热稳定性和抗电化学迁移能力,适用于高可靠功率电子封装。

加强 · Guisheng, Zou · Zhang, Hongqiang · 邓中洋 · Wang, Wengan · 刘雷 · 马立民 · 郭福

Applied Surface Science 2023

参数信息

烧结温度
250 °C
微观结构稳定时间
1400 h
短路时间比
2.4

技术优势

微观结构更稳定

原位形成的 Cu2O/CuO 存在于孔隙表面和晶界处,阻止了银的粗化,使接头在 300 °C 下的稳定时间从 400 h 延长到 1400 h。

抗电化学迁移

银铜合金与氧化铜的协同作用在阳极溶解过程中提供保护,短路时间是纯银电极的 2.4 倍。

低温空气烧结

无需保护气氛或还原气氛,在 250 °C 空气中即可完成烧结,且不牺牲连接强度。

应用场景