4.8V高压稳定
热力学稳定的InPO₄界面稳定Ni⁴⁺/Oᵅ⁻并抑制有害H2-H3相变,同时提升正极的循环与热稳定性。
Zhang H. · Wu Y. · Kuang Y. · Xu X. · Li F. · Chen J. · Tang S. · Zhao J. · Liu J. · Huo Y.
Advanced Functional Materials 2026
InPO₄包覆层稳定Ni⁴⁺/Oᵅ⁻并形成稳定CEI,防止高电压下与电解液发生副反应。
原位表征表明InPO₄层抑制有害H2-H3相变,并在25至400°C的热冲击下保持层状结构。
包覆后正极在4.6V、10C下500次循环容量保持约85.7%,在4.8V、1C下200次循环保持约80.0%。