高开关比快速响应
在n-SiC外延层上定向生长p型CuI薄膜,形成高质量异质结,紫外探测性能显著提升。
Xia, Yang · 吕燕飞 · 席俊华 · Li, Fu · 陈飞 · 赵士超
Materials Letters 2025
开关比 4.33 × 10⁶