常关耐高压
通过部分C-Si-O沟道结构,解决了常关金刚石MOSFET无法承受高压的问题,使器件兼具常关特性和高击穿电压。
Fu, Yu · 任泽阳 · 苏凯 · 张金风 · Ruowei, Liu · Yijiang, Li · Liaoliang, Zhu · Jintao, Meng · Peng, Qian · Wang, Dong · 74227950 · Kawarada, Hiroshi · 张进成
IEEE Electron Device Letters 2025
部分C-Si-O沟道使常关器件的关态击穿电压提高到-1376 V。
先形成完整C-Si-O沟道,再通过SiO2掩膜选择性替换为C-H沟道,无需重叠栅。
氧终端硅终端界面使器件具有高阈值电压的常关特性。