摆线抛光路径

去除均匀，纹理各向同性

同时实现均匀材料去除、各向同性表面纹理和高抛光效率的自由曲面抛光路径。

Xie, Hailong · 王清辉 · Yue-Feng, Li · 李静蓉 · Nee, Andrew Y.C. · Ong, S. K.

Robotics and Computer-Integrated Manufacturing 2026

参数信息

纹理各向同性提升

20 ×

技术优势

三项指标同时提升

抛光效率、材料去除均匀性和纹理各向同性同时提升，无需在指标间取舍。

各向同性大幅提升

纹理各向同性相比现有方法提升约20倍，显著改善表面性能。

路径随机性更高

改进的Hilbert曲线和自适应摆线组合带来更多可调参数和更高随机性，避免规则路径产生的方向性纹理。

应用场景

• 自由曲面抛光：直接用于自由曲面零件抛光，获得均匀去除和各向同性纹理。
• 光学表面加工：提升光学表面抛光质量，减少纹理方向性对光学性能的影响。
• 增材表面后处理：用于增材制造零件的后处理抛光，改善表面质量。
• 模具表面精整：模具表面精整，获得均匀一致的表面纹理。