嵌入铜网

50%应变ΔR/R < 0.25

通过应力辅助剥离实现无残留嵌入,兼顾高透光率与超低方阻,且在拉伸下保持结构完整。

Yongliang, Zhang · Xueyu, Li · Zhilong, Wang · Liang, Kun · 葛芳芳 · 马寅佶 · 宋吉舟 · 张洪亮

Applied Surface Science 2026

参数信息

光学透过率
81 %
方阻
0.1 Ω/sq
品质因数
15969
50%应变下电阻变化
0.25

技术优势

无残留嵌入

通过调控Cu/ITO界面的弱配位键,应力辅助剥离使金属网干净地嵌入聚合物,避免化学蚀刻残留。

拉伸下电阻稳定

嵌入后金属网与聚合物机械互锁,50%应变下电阻变化小于0.25,100%应变下小于1.75。

电热响应快且耐久

嵌入电极在应变下仍保持结构完整,并表现出快速、持久的电热响应,适用于柔性加热器。

应用场景