Ni掺杂FeOOH纳米片阵列

20分钟室温制备

通过氧还原沉积法在铁基底上原位生长的多晶纳米片,无需贵金属即可实现高效水氧化。

Yan, Yaotian · Huang, Keke · 林景煌 · Taili, Yang · Peijia, Wang · Liang, Qiao · Cai, Wei · 郑晓航

Applied Catalysis B: Environmental 2023

参数信息

过电位
239 mV
Tafel斜率
33 mV dec⁻¹
TOF提高倍数
32.6 倍
决速步能垒降低
1.4 eV

技术优势

活性更高

Ni掺杂诱导FeOOH中电荷重新分布,Fe和Ni的平均价态升高,费米能级下降、电子受体增强,从而降低决速步能垒约1.4 eV。

制备快速温和

利用Fe金属与空气中O₂的还原电位差,在覆盖的Ni²⁺液层中热力学驱动氧还原,室温下仅需20分钟即可原位生成纳米片阵列。

超越贵金属催化剂

Ni-FeOOH的催化性能(过电位239 mV,Tafel斜率33 mV/dec)超过部分含贵金属组分的主流电催化剂。

应用场景