硒掺杂介孔核壳结构

比电容2246 F/g

双模板剂调控介孔表面并辅以离子扩散动力学优化,大幅提升活性位点可及性,使电极表现出超高比电容。

Dongyu, Zhu · Wang, Hanbo · 王燕 · Yi, Tian · Sun, Shijie · Wang, Ziming · 田玉美 · 陆海彦

Journal of Colloid and Interface Science 2026

具体参数

比电容
2246 F g⁻¹

技术优势

孔结构可精确调控

通过调节两种表面活性剂的比例(如F108与P123),可以系统性改变介孔尺寸分布,从而优化活性位点的可及性。

活性位点可及性高

介孔交联表面确保了内部活性位点在溶液相条件下的充分暴露,从而显著提升电容性能。

机械稳定性好

在造孔和掺杂过程中,整体框架的机械完整性得以保持,有利于长期循环稳定性。

应用场景