TiAlN/AlCrSiN多层吸收体

900°C退火后光谱稳定

通过退火诱导TiAlN层发生旋节分解形成双相结构，在高温下保持高吸收率和低热发射率。

Qiao, Wu · Zhenyuan, Wang · Jingshu, Xiao · Hu, Zhuang · Ting, Huang · Feng, Zhu · Jixue, Cao · Qi, Yi · 刘抗 · 刘辉东

Surface and Coatings Technology 2023

参数信息

太阳能吸收率

0.923

热发射率

0.192

太阳能吸收率

0.935

热发射率

0.232

技术优势

700°C下光谱稳定

在700 °C退火100小时后吸收率和发射率仅从0.923/0.192变为0.935/0.232，保持高温下的高选择性。

抗高温退化

旋节分解形成的富Ti和富Al双相立方结构抑制了高温下的相变和元素扩散，赋予吸收体在900 °C退火后的光学性能。

无需贵金属

基于TiAlN/AlCrSiN陶瓷薄膜即可实现高吸收和低发射，避免了使用Au、Pt等贵金属，有利于低成本大面积制备。

应用场景

• 高温光热转换：满足下一代聚光太阳能热发电对高于700 °C选择性吸收体的需求。
• 太阳能聚光集热：作为聚光集热器的吸收涂层，在高温下维持高吸收率和低发射率以提高光热转换效率。
• 航天器热控涂层：利用其高温稳定性和可调光学性能，可用于航天器表面热控。
• 高温光谱测量：在高温下保持光谱特性，便于进行高温光谱测量。
• 耐高温薄膜：薄膜在900 °C退火后仍保持结构稳定，满足耐高温薄膜应用。