AlN厚膜加速度计

600°C稳定工作

直接用反应磁控溅射在钢基上制备AlN厚膜,省去光刻腐蚀减薄,提升能量传递,且与MEMS工艺兼容。

Ting, Lv · Pelenovich, Vasiliy · Chang, Xu · Zeng, Xiaomei · 侯冬杨 · Zechang, Xiong · 杨兵 · 东芳 · 刘胜

Ceramics International 2024

参数信息

灵敏度
6.73 mV/g
谐振频率
1193 Hz
分辨率
0.45 mg
热噪声
39.76 nV/√Hz
高温稳定性
6 h

技术优势

600°C稳定工作

AlN材料本身耐高温,且制备工艺保证了薄膜与基底的结合,使加速度计在600 °C下长期(6 h)灵敏度稳定。

制备更简单

直接在不锈钢基底上溅射AlN厚膜,省去光刻、腐蚀和减薄等复杂步骤,缩短工艺周期。

能量传递效率更高

与硅基压电加速度计相比,制备方法提高了压电层的能量传递效率,从而提升传感器灵敏度。

应用场景