CeOx修饰CuO催化剂

高电流密度高选择性

CeOx纳米岛稳定界面氧化铜物种,在强还原电位下保持C-C偶联活性位点,实现高电流密度下高效稳定的C2+产物生成。

Wei, Miaojin · 李佳伟 · Zhao, Jiankang · Hu, Sunpei · Xue, Weiqing · Dai, Yizhou · Wang, Haoyuan · Hui, Kwun Nam · 徐立 · 夏川 · Zheng, Tingting · 曾杰

National Science Review 2025

具体参数

法拉第效率
78 %
法拉第效率
>70 %

技术优势

原位表征证实高还原电位下Cu²⁺和Cu⁺持续存在