六方锗纳米结构

硅上直接带隙发光

在硅衬底上原位形成的六方锗纳米结构,不同于常见的立方相间接带隙锗,具备直接带隙发光特性,为硅基光电子集成提供兼容光源。

张宁宁 · Jia, Yan · 王黎明 · Zhang, Jiarui · Zhang, Zhifang · Tian, Miao · 郑长林 · 蒋最敏 · 胡辉勇 · 钟振扬

ACS Nano 2023

参数信息

光致发光峰位
1562 nm

技术优势

直接带隙发光

六方锗纳米结构具有直接带隙,室温下在1562 nm附近产生强光致发光,绕开了立方锗间接带隙低效发光的限制。

近室温性能稳定

光致发光光谱在近室温范围内几乎不随温度变化,有利于器件在非严格温控环境下工作。

与硅工艺兼容

六方锗在硅衬底上原位形成,与成熟硅技术兼容,可直接集成到硅基光电子集成电路中,无需异质键合。

应用场景