均匀高密度强化
通过L2₁壳层缓冲G相与铁素体基体的晶格失配,克服非共格相晶界异质形核的难题,在铁素体钢中获得均匀弥散的G相纳米析出。
Chiang, Fukuo · 温玉仁 · Mujin, Yang · Jiajia, Han · Hao, Wang · Xi, Shen · Shang, Tongtong · 禹日成 · Liu, Xingjun Liang · 刘雄军
Materials Characterization 2026
通过L2₁壳层缓冲G相与铁素体基体间的晶格失配,使非共格G相得以在晶内均匀形核,不再依赖晶界等缺陷。
G/L2₁界面存在多个共格/半共格惯习面,有效松弛应变,从而显著降低形核能垒,促进均匀析出。
界面处的化学混合降低了界面能,从而抑制析出相粗化,有利于保持高密度细小析出。