SnCl₂[SC(NH₂)₂]双折射晶体

3.36 eV宽禁带与0.20大双折射兼得

通过硫脲与卤化亚锡基元协同组装，同时实现紫外透光性和高双折射率，打破硫属化合物“3 eV墙”。

Duan, Meihong · Fang, Zhi · ORecord 科技单元

Dalton Transactions 2026

具体参数

birefringence

{'zh': '', 'en': '546'} nm

禁带宽度

{'zh': '3.362', 'en': ''} eV

技术优势

紫外兼容的硫属化合物双折射晶体