2300 °C 抗烧蚀
通过激光熔覆结合包埋渗法构筑(Hf,Ta)C–TaSi₂结构,在8.0 MW/m²热流下保持完整,为Ta-W基底提供可靠热防护。
Youjiang, Zhang · Qiyao, Deng · 李洋 · He, Pengfei · Sun, Chuan · Bu, Wengang · Yue, Xing · Cai, Yujun · 梁秀兵
Journal of Advanced Ceramics 2025
涂层在8.0 MW/m²热流密度、2300 °C烧蚀300 s后仍保持结构完整,直接保护Ta-W基底。
烧蚀产物形成致密HfO₂层与Hf-Ta-O玻璃态氧化膜,协同屏蔽氧和热流,抑制进一步烧蚀。